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Optical constants of in situ-deposited films of important extreme-ultraviolet multilayer mirror materials

机译：重要的极紫外多层镜材料的原位沉积膜的光学常数

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We have performed angle-dependent reflectance measurements of in situ magnetron sputtered films of B4C, C, Mo, Si, and W. The Fresnel relations were used to determine the complex index of refraction from the reflectance data in the region of approximately 35-150 eV. In the cases of Si, C, and B4C we found excellent agreement with published data. However, for Mo and W we found that the optical properties from 35 to 60 eV differed significantly from those in the Literature. [References: 13]
机译：我们已经对B4C，C，Mo，Si和W的原位磁控溅射膜进行了随角度变化的反射率测量。使用菲涅耳关系根据反射率数据确定大约35-150范围内的复折射率。 eV。在Si，C和B4C的情况下，我们发现与公开的数据非常吻合。但是，对于Mo和W，我们发现35至60 eV的光学特性与文献中的有很大不同。 [参考：13]

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