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Spontaneous Deposition of Iridium onto Nickel Substrates for the Oxygen Evolution Reaction

机译：铱自发沉积在镍基体上进行析氧反应

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Spontaneous deposition of Ir onto Ni substrates was investigated as a method to produce electrocatalytic layers for the oxygen evolution reaction in 30 % KOH solution. UV/Vis spectroscopy, cyclic voltammetry and other electrochemical methods are used to investigate the deposition process and the activity of the electrocatalytic coating towards the oxygen evolution reaction. From three solutions (IrCl3+HCl, H2IrCl6+HCl and H2IrCl6), H2IrCl6 is shown to give the most active and stable coating, with deposition times of 45 min at 60(a similar to)C enough to increase the activity of the Ni substrate for the oxygen evolution reaction. It is proposed that Ir deposition can occur via the reduction of the Ir precursor coupled to Ni oxidation, as well as the hydrolysis and localised precipitation of the Ir precursor due to the increase in surface pH during Ni dissolution.
机译：作为在30％KOH溶液中产生氧逸出反应的电催化层的方法，研究了Ir自发沉积在Ni衬底上的方法。 UV / Vis光谱，循环伏安法和其他电化学方法用于研究沉积过程以及电催化涂层对氧释放反应的活性。从三种溶液（IrCl3 + HCl，H2IrCl6 + HCl和H2IrCl6）中，可以看出H2IrCl6提供了最有效和最稳定的涂层，在60℃（类似于）下的沉积时间为45分钟，足以增加Ni底物的活性。用于氧气释放反应。提出可以通过还原与Ni氧化结合的Ir前驱体，以及由于Ni溶解过程中表面pH值的增加而导致Ir前驱体的水解和局部沉淀，来发生Ir沉积。

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