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Tailoring particle arrays by isotropic plasma etching: an approach towards percolated perpendicular media

机译：通过各向同性等离子蚀刻定制粒子阵列：一种渗透垂直介质的方法

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Plasma etching of densely packed arrays of polystyrene particles leads to arrays of spherical nanostructures with adjustable diameters while keeping the periodicity fixed. A linear dependence between diameter of the particles and etching time was observed for particles down to sizes of sub-50 nm. Subsequent deposition of Co/Pt multilayers with perpendicular magnetic anisotropy onto these patterns leads to an exchange-decoupled, single-domain magnetic nanostructure array surrounded by a continuous magnetic film. The magnetic reversal characteristic of the film—particle system is dominated by domain nucleation and domain wall pinning at the particle locations, creating a percolated perpendicular media system.
机译：等离子刻蚀密集堆积的聚苯乙烯颗粒阵列会导致球形纳米结构的直径可调，同时保持周期性不变。对于小于50nm的尺寸的颗粒，观察到颗粒直径与蚀刻时间之间的线性相关性。随后将具有垂直磁各向异性的Co / Pt多层沉积到这些图案上，导致交换分离的单畴磁性纳米结构阵列被连续的磁性膜包围。薄膜-粒子系统的磁性反转特性主要由粒子位置处的畴核化和畴壁钉扎控制，从而形成了渗透的垂直介质系统。

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