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The nanofabrication of polydimethylsiloxane using a focused ion beam

机译：使用聚焦离子束纳米加工聚二甲基硅氧烷

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Nanofabrication on insulating and flexible films of polydimethylsiloxane (PDMS) using a focused ion beam (FIB) has been illustrated in this study. The charge accumulation effect, which is inevitable in polymeric fabrication, was shown to be relieved by simultaneously introducing electron beam flooding in the area exposed to FIB. The topography of the fabricated pattern is subsequently characterized by using an atomic force microscope (AFM), by which the dependence of height/depth of the fabricated arrays on ion beam dose could be obtained. In addition, the swelling effect and milling effect relating to focused ion beam dose could be identified in this study.
机译：在这项研究中说明了使用聚焦离子束（FIB）在聚二甲基硅氧烷（PDMS）的绝缘膜和柔性膜上进行纳米加工。通过在暴露于FIB的区域中同时引入电子束泛滥，可以减轻聚合物制造中不可避免的电荷积累效应。随后，通过使用原子力显微镜（AFM）表征所制造图案的形貌，从而可以获取所制造阵列的高度/深度对离子束剂量的依赖性。此外，在这项研究中可以确定与聚焦离子束剂量有关的溶胀效应和研磨效应。

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