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Liquid-precursor electron-beam-induced deposition of Pt nanostructures: dose, proximity, resolution

机译：液体前体电子束诱导的Pt纳米结构沉积：剂量，接近度，分辨率

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While electron-beam-induced deposition (EBID) from various gaseous precursors has been known and studied for decades, EBID from bulk liquid precursors is very much in its infancy and the following is only the second report on this technique. Here we present liquid-precursor (LP-)EBID of platinum (Pt) nanostructures from a dilute aqueous solution of chloroplatinic acid (H2PtCl6). We investigate how the lateral size of Pt nanoparticles (NPs) varies with charge dose, and how already deposited Pt NPs are affected by the subsequent deposition of their neighbors (proximity effect). We also demonstrate LP- EBID of dense arrays of small Pt dots (60 nm pitch, 30 nm diameter) and thin Pt lines (60 nm pitch, 25 nm width), which compare favorably with the typical resolution of resist-based electron-beam lithography.
机译：尽管已经知道并研究了来自各种气态前体的电子束诱导沉积（EBID），但来自散装液体前体的EBID尚处于起步阶段，以下仅为该技术的第二篇报道。在这里，我们介绍了从氯铂酸（H2PtCl6）的稀水溶液中铂（Pt）纳米结构的液体前体（LP-）EBID。我们研究了Pt纳米颗粒（NPs）的横向尺寸如何随电荷剂量而变化，以及已经沉积的Pt NPs如何受到其邻居的后续沉积（邻近效应）的影响。我们还展示了小Pt点（间距60 nm，直径30 nm）和细Pt线（间距60 nm，宽度25 nm）的密集阵列的LP- EBID，与基于抗蚀剂的电子束的典型分辨率相比具有优势光刻。

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