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Fabrication of highly ordered nanoporous alumina films by stable high-field anodization

机译：通过稳定的高场阳极氧化制备高度有序的纳米多孔氧化铝膜

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Stable high-field anodization (1500-4000 Am~2) for the fabrication of highly ordered porous anodic alumina films has been realized in a H_3PO_4-H_2O-C_2H_5OH system. By maintaining the self-ordering voltage and adjusting the anodizing current density, high-quality self-ordered alumina films with a controllable inter-pore distance over a large range are achieved. The high anodizing current densities lead to high-speed film growth (4-10 mu m min~(-1)). The inter-pore distance is not solely dependent on the anodizing voltage, but is also influenced by the anodizing current density. This approach is simple and cost-effective, and is of great value for applications in diverse areas of nanotechnology.
机译：在H_3PO_4-H_2O-C_2H_5OH体系中已经实现了稳定的高场阳极氧化（1500-4000 Am〜2），用于制备高度有序的多孔阳极氧化铝膜。通过保持自定序电压并调节阳极氧化电流密度，可获得在大范围内具有可控的孔间距离的高质量自定序氧化铝膜。高的阳极氧化电流密度导致高速成膜（4-10μmmin〜（-1））。孔间距离不仅取决于阳极氧化电压，而且还受阳极氧化电流密度的影响。这种方法简单且具有成本效益，对于在纳米技术的各个领域中的应用具有巨大的价值。

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