• 主题
高级搜索  >
历史搜索 清空历史
首页> 外文期刊>Nanotechnology >Towards creation of iron nanodots using metastable atom lithography
【24h】

Towards creation of iron nanodots using metastable atom lithography

机译：使用亚稳原子光刻技术创建铁纳米点

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           
页面导航
  • 摘要
  • 著录项
  • 相似文献
  • 相关主题

摘要

Iron structures with dimensions of the order of the minimum domain size (approx 50 nm at room temperature) may provide us with a new high-density data storage method. Limitations have been observed in existing depositional atom lithography schemes for producing these structures. We present a proof-in-principle experiment using an alternative scheme based upon direct exposure metastable neon-atom lithography. Iron structures with dimensions of the order of 7.5 mu m are produced by this method. Extension of this work to the application of standing-wave atom lithography and laser cooling flux enhancement techniques is discussed as a method for reducing dimensions to a size equating to a dot array density of around 0.1 Gbit mm~(-2).
机译：铁结构的尺寸约为最小畴尺寸（室温下约为50 nm）可能为我们提供了一种新的高密度数据存储方法。在用于产生这些结构的现有沉积原子光刻方案中已经观察到局限性。我们提出了一个基于直接曝光亚稳氖原子光刻的替代方案的原理验证实验。用这种方法生产的铁结构尺寸约为7.5μm。讨论了将这项工作扩展到驻波原子光刻技术和激光冷却通量增强技术的应用，作为一种将尺寸减小到等于大约0.1 Gbit mm〜（-2）的点阵列密度的方法。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

  • 客服微信

  • 服务号