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【24h】

Flash imprint lithography using a mask aligner: a method for printing nanostructures in photosensitive hydrogels

机译：使用掩膜对准器的闪光压印光刻：一种在光敏水凝胶中印刷纳米结构的方法

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In this paper, we report a general method for imprinting nanometer-scale features in low-viscosity photosensitive hydrogels using conventional optical mask aligner technology. We call this method flash imprint lithography using a mask aligner (FILM). The FILM process makes it possible to fabricate nanometer-scale features in ultraviolet (UV)-curable hydrogels quickly, inexpensively and reproducibly. We believe that the FILM process will be useful in many areas of research but is particularly applicable to tissue engineering. Accordingly, we demonstrate the FILM process by imprinting dense arrays of nanostructures in polyethylene glycol dimethacrylate (PEGDMA), a material commonly utilized as a substrate in micro- and nanoscale tissue scaffolds; finite element modeling and contact angle analysis are employed to characterize pattern transfer of low-viscosity polymers (e. g. PEGDMA) in the FILM process.
机译：在本文中，我们报告了一种使用常规光学掩模对准器技术在低粘度光敏水凝胶中压印纳米尺度特征的通用方法。我们称这种方法为使用掩模对准器（FILM）的快速压印光刻。 FILM工艺使得可以在紫外线（UV）固化的水凝胶中快速，廉价且可重复地制造纳米级特征。我们相信FILM工艺将在许多研究领域中有用，但特别适用于组织工程。因此，我们通过在聚乙二醇二甲基丙烯酸酯（PEGDMA）中压印纳米结构的密集阵列来证明FILM工艺，聚乙二醇二甲基丙烯酸酯（PEGDMA）是一种通常用作微型和纳米级组织支架的底物的材料。有限元建模和接触角分析被用于表征FILM工艺中低粘度聚合物（例如PEGDMA）的图案转移。

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