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Exploring a new strategy for nanofabrication: deposition by scattered Ga ions using focused ion beam

机译：探索纳米加工的新策略：使用聚焦离子束通过分散的Ga离子进行沉积

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We report a new strategy of nanofabrication using the focused ion beam (FIB)-based chemical vapor deposition method. It utilizes scattered Ga ions to decompose organometallic molecules of the precursor gas for depositing the metallic element on a surface with the advantage of producing uniform metallic coats on those surfaces of nanostructures which are not directly accessible to the primary beam. The method can be used to provide electrical contacts on inaccessible regions of prototype nanodevices, such as ion batteries, electrophoresis cells, cantilevers, etc, which have been demonstrated and explained by depositing Pt and W on different surfaces of 3D nanostructures.
机译：我们报告了使用基于聚焦离子束（FIB）的化学气相沉积方法的纳米加工的新策略。它利用分散的Ga离子分解前驱气体的有机金属分子，以将金属元素沉积在表面上，其优点是在纳米结构的那些主光束无法直接到达的表面上形成均匀的金属涂层。该方法可用于在原型纳米器件不可访问的区域（例如离子电池，电泳池，悬臂等）上提供电接触，​​已通过在3D纳米结构的不同表面上沉积Pt和W进行了演示和解释。

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