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Selective growth of nanometre scale structures with high resolution using thermal energy in AFM lithography

机译：在AFM光刻中使用热能选择性生长具有高分辨率的纳米尺度结构

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We report the effect of applied thermal energy in the fabrication of protruded nanostructures on tantalum (Ta) thin films using atomic force microscope (AFM) lithography and the fabrication of nanopatterns of Ta thin films by a dry etching process of protruded tantalum oxide (Ta_2O_5). Oxidized nanostructures with a high aspect ratio were successfully fabricated at high temperature by applying thermal energy. The lithographic speed of fabrication of protruded nanostructures was dramatically improved by the enhancement of electron transfer depending on the applied thermal energy and directional diffusion of OH~- ions depending on the increase of temperature. Nanopatterns of Ta with a high angle slope (over 80 deg) were fabricated by selective dry etching of Ta_2O_5.
机译：我们报告了使用原子力显微镜（AFM）光刻技术在钽（Ta）薄膜上制造突出的纳米结构时所施加的热能的影响，以及通过钽氧化物（Ta_2O_5）的干蚀刻工艺制造Ta薄膜的纳米图案的应用。 。通过施加热能成功地在高温下制造了具有高长径比的氧化纳米结构。通过根据所施加的热能来增强电子传递，并根据温度的升高来改善OH〜-离子的定向扩散，从而显着提高了凸出纳米结构制造过程的光刻速度。通过选择性干法刻蚀Ta_2O_5，制备了具有高角度斜率（超过80度）的Ta纳米图案。

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