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Metrologies for the phase characterization of attosecond extreme ultraviolet optics

机译：亚秒级极紫外光学器件的相位表征度量衡

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Extreme ultraviolet (EUV) optics play a key role in attosecond science since only with higher photon energies is it possible to achieve the wide spectral bandwidth required for ultrashort pulses. Multilayer EUV mirrors have been proposed and are being developed to temporally shape (compress) attosecond pulses. To fully characterize a multilayer optic for pulse applications requires not only knowledge of the reflectivity, as a function of photon energy, but also the reflected phase of the mirror. We develop the metrologies to determine the reflected phase of an EUV multilayer mirror using the photoelectric effect. The proposed method allows one to determine the optic's impulse response and hence its pulse characteristics. (C) 2008 Optical Society of America.
机译：极紫外（EUV）光学在阿秒科学中起着关键作用，因为只有使用更高的光子能量，才可能实现超短脉冲所需的宽光谱带宽。已经提出了多层EUV镜，并且正在开发以在时间上成形（压缩）阿秒脉冲。为了完全表征用于脉冲应用的多层光学器件，不仅需要了解反射率（作为光子能量的函数），还需要了解反射镜的反射相位。我们开发了利用光电效应来确定EUV多层镜的反射相位的方法。所提出的方法可以确定光学器件的脉冲响应，从而确定其脉冲特性。 （C）2008年美国眼镜学会。

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