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【24h】

Critically coupled surface phonon-polariton excitation in silicon carbide

机译:碳化硅中的临界耦合表面声子-极化子激发

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摘要

We observe critical coupling to surface phonon-polaritons in silicon carbide by attenuated total reflection of mid-IR radiation. Reflectance measurements demonstrate critical coupling by a double scan of wavelength and incidence angle. Critical coupling occurs when prism coupling loss is equal to losses in silicon carbide and the substrate, resulting in maximal electric field enhancement.
机译:我们通过中红外辐射的全反射衰减观察到了碳化硅中表面声子-极化子的临界耦合。反射率测量通过对波长和入射角的双重扫描来证明临界耦合。当棱镜耦合损耗等于碳化硅和衬底的损耗时,就会发生临界耦合,从而最大程度地增强电场。

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