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【24h】

A new carbon nitride phase synthesized by ion-beam sputtering

机译:离子束溅射合成新的氮化碳相

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摘要

Ion-beam sputtering of a graphite target in a discharge gas of high-purity N_2 has been used to produce C-N thin films. Quantitative analysis by Auger electron spectroscopy showed an average nitrogen content close to 30 at.%. Raman spectra confirmed that nitrogen is chemically bonded to carbon. Scanning electron microscopy images exhibited numerous crystals with grain sizes from 1 to 5 μm within the C-N films. Electron diffraction studies indicated that the crystals have a bcc structure with a lattice parameter a = 1.13 nm.
机译:在高纯度N_2的放电气体中对石墨靶进行离子束溅射已用于生产C-N薄膜。通过俄歇电子能谱法进行的定量分析显示平均氮含量接近30 at。%。拉曼光谱证实,氮是化学键合到碳上的。扫描电子显微镜图像显示在C-N膜内有许多晶粒,晶粒尺寸为1至5μm。电子衍射研究表明,晶体具有bcc结构,晶格参数a = 1.13 nm。

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