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【24h】

Interfacial observations of Ni/Ni_3Si and Ni/Ni_3Ga diffusion couples

机译：Ni / Ni_3Si和Ni / Ni_3Ga扩散偶的界面观察

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Microstructural observations and selected-area electron diffraction analyses are conducted around the diffusion-couple interfaces of Ni/Ni Si and Ni/Ni Ga. 3 3 The Ni-rich solid solution phase (eta phase) grows towards the Ni Si- or Ni Ga3 3 based intermetallic phase (eta phase) during diffusion annealing and there exists the same crystallographic orientation relationship between the eta and eta phases. It is demonstrated that this growth process and structural faeatures are characteristic of the diffusion couples between pure Ni and Ni-based intermetallics with the L1-type crystal structure. It is shown that the focused2 ion-beam cutting technique is a useful tool for preparing thin specimens for transmission electron microscopy.
机译：围绕Ni / Ni Si和Ni / Ni Ga的扩散耦合界面进行微观结构观察和选择区域电子衍射分析3 3富Ni固溶体相（η相）向Ni Si-或Ni Ga3方向生长扩散退火过程中的3基金属间相（η相）在η相和η相之间存在相同的晶体取向关系。结果表明，这种生长过程和结构特征是纯Ni和具有L1型晶体结构的Ni基金属间化合物之间扩散对的特征。结果表明，聚焦离子束切割技术是制备用于透射电子显微镜的薄样品的有用工具。

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