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Initiated and oxidative chemical vapor deposition: a scalable method for conformal and functional polymer films on real substrates

机译：引发和氧化化学气相沉积：在真实基材上保形和功能性聚合物薄膜的可扩展方法

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Chemical vapor deposition (CVD) is a widely-used technology for the preparation of conformal and defect-free inorganic thin films with systematically tunable properties. Polymers are a desirable class of materials for surface modification because of their low cost, wide array of chemical and physical functionality and mechanical flexibility. Initiated and oxidative chemical vapor deposition (iCVD.and oCVD) are polymer CVD methods that combine the benefits of CVD processing with the possibilities of polymeric materials. Using these technologies, our laboratory has synthesized a number of functional, biocompatible and electrically conducting polymers as thin films on micro- and nano-structured surfaces. This Perspective will review recent advances in these areas and highlight devices and applications that utilize iCVD and oCVD polymers.
机译：化学气相沉积（CVD）是用于制备具有系统可调特性的保形且无缺陷的无机薄膜的广泛使用的技术。聚合物由于其低成本，广泛的化学和物理功能以及机械柔韧性而成为表面改性的理想材料。引发和氧化化学气相沉积（iCVD。和oCVD）是聚合物CVD方法，它结合了CVD处理的优势和聚合物材料的可能性。使用这些技术，我们的实验室已经在微米和纳米结构的表面上合成了许多功能性，生物相容性和导电性的聚合物薄膜。本《观点》将回顾这些领域的最新进展，并重点介绍利用iCVD和oCVD聚合物的器件和应用。

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