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机译:4H-SiC外延层的致命性缺陷和通过低能电子辐照控制的寿命
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION; SILICON-CARBIDE; EPITAXIAL LAYERS; DEEP LEVELS; GROWTH; SPECTROSCOPY; RELIABILITY; REDUCTION; CENTERS; DIODES;
机译:4H-SiC外延层的致命性缺陷和通过低能电子辐照控制的寿命
机译:4H-SiC外延层载流子寿命研究及电子辐照控制寿命
机译:低能电子辐照n型4H-SiC外延层的深能级研究
机译:高能电子辐照产生的n型和p型4H-SiC外延层中缺陷中心的热稳定性
机译:利用电子顺磁共振和光电子顺磁共振研究半绝缘4H-SiC中的缺陷能级
机译:低能电子辐照下潜在铜前体薄膜对聚焦电子束诱导沉积(FEBID)的响应
机译:4H-SiC外延层载流子寿命研究及电子辐照控制寿命
机译:n( - )4H-siC外延层的寿命限制缺陷。