Masks; Inspection; Quality control;
机译:基于相干衍射成像方法聚焦EUV聚焦的EUV显微镜的EUV掩模缺陷评估
机译:使用EUV显微镜进行光化掩模检查:制备用于相缺陷检测的Mirau干涉仪
机译:通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
机译:航空影像显微镜,用于检查EUV掩模中的缺陷
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:荧光显微镜图像的有源遮分割
机译:通过聚焦EUV航空图像的掩模相位缺陷的定量评估