机译:由Ru电极和基于Hf的CMOS栅极电介质组成的高级栅极堆叠的热稳定性
机译:用于先进CMOS器件的硅上基于Hf的高k介电膜的热稳定性
机译:UV / VUV增强的RTP对90-nm以下CMOS制程的金属栅极/高K栅极堆叠的工艺变化和器件性能的影响
机译:先进的高k金属栅极CMOS器件中栅极电介质击穿的路径发现
机译:先进CMOS器件中金属栅极与高k栅极电介质的相互作用。
机译:高k和更稳定的稀土氧化物作为先进CMOS器件的栅极电介质的设计
机译:将高K /金属门控设备应用于高级CMOS技术的进展和挑战