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【2h】

Mechanical Property Characterization of LPCVD Silicon Nitride Thin Films at Cryogenic Temperatures

机译：低温下LPCVD氮化硅薄膜的力学性能表征

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Wen-hsien Chuang; Student Member; Thomas Luger; Rainer K. Fettig; Reza Ghodssi;
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年度 2014
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