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用于微水束与激光耦合的高压微水束的射流装置

摘要

本发明属微细射流水束与高能激光束耦合加工晶圆的技术领域,特别涉及一种用于微水束与激光耦合的高压微水束的射流装置,包括安装支架(1)、二维微调平台(2)及射流腔体(3);所述二维微调平台(2)与安装支架(1)固定相接;所述射流腔体(3)固定置于二维微调平台(2)中部;所述在二维微调平台(2)中心设有中心通孔(22)。本发明加工效率高,加工质量理想,可满足微水束与激光束耦合加工工艺需求,有效提升晶圆加工工艺水平。

著录项

  • 公开/公告号CN109277697A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-01-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 沈阳仪表科学研究院有限公司;

    申请/专利号CN201811480417.7

  • 申请日2018-12-05

  • 分类号

  • 代理机构沈阳亚泰专利商标代理有限公司;

  • 代理人郭元艺

  • 地址 110043 辽宁省沈阳市大东区北海街242号

  • 入库时间 2024-02-19 06:33:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):B23K26/146 申请日:20181205

    实质审查的生效

  • 2019-01-29

    公开

    公开

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