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一种用于涂硼中子探测器富硼涂层的薄膜结构

摘要

本发明涉及一种用于涂硼中子探测器富硼涂层的薄膜结构,包括基底和B4C薄膜其特征在于,所述基底和B4C薄膜间设置有金属层;所述的金属层的材料为活泼金属;该活泼金属优选为Ti、Ni、Al、Mg或MgAl合金中的一种;所述金属层的厚度小于100nm。与现有技术相比,本发明大大增强了B4C薄膜与铝基底间的黏附效果;解决B4C薄膜从铝基底上脱落的问题,具有制备简单,膜系结构简单,工艺成熟,可制备性强等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN109852927A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-06-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 同济大学;

    申请/专利号CN201910180279.9

  • 发明设计人 齐润泽;张众;王占山;冯秦旭;

    申请日2019-03-11

  • 分类号C23C14/06(20060101);C23C14/16(20060101);C23C14/35(20060101);

  • 代理机构31225 上海科盛知识产权代理有限公司;

  • 代理人赵志远

  • 地址 200092 上海市杨浦区四平路1239号

  • 入库时间 2024-02-19 10:10:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-07-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/06 申请日:20190311

    实质审查的生效

  • 2019-06-07

    公开

    公开

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