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探索装置、探索方法以及等离子处理装置

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本发明提供探索装置、探索方法以及等离子处理装置。实现处理装置中的最优处理条件探索的高效化。模型学习部(108)根据学习数据来学习预测模型，指标设定部(107)通过对目标输出参数值和学习数据的输出参数值当中最接近目标输出参数值的输出参数值之间进行插值，来设定指标输出参数值，处理条件探索部(109)使用预测模型来推定与目标输出参数值以及指标输出参数值对应的输入参数值，模型学习部(108)将处理条件探索部推定出的输入参数值和处理装置根据该推定出的输入参数值进行处理的结果即输出参数值的组用作追加学习数据，来更新预测模型。

著录项

公开/公告号CN110276470A

专利类型发明专利
公开/公告日2019-09-24

原文格式PDF
申请/专利权人株式会社日立高新技术;
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申请/专利号CN201811578970.4
发明设计人奥山裕;大森健史;栗原优;中田百科;
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申请日2018-12-21
分类号
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人高颖
地址日本东京都
入库时间 2024-02-19 13:31:28

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-10-22

实质审查的生效 IPC(主分类):G06Q10/04 申请日:20181221

实质审查的生效
2019-09-24

公开

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