首页> 中国专利> 电子显微镜中测量和控制像差

电子显微镜中测量和控制像差

页面导航

摘要
著录项
法律信息
相似文献

摘要

公开了一种电子显微镜系统和测量电子显微镜系统的像差的方法。光圈在所述电子显微镜的衍射平面处过滤电子束以穿过具有选定能量和动量的电子。在所述电子显微镜的像平面中的检测器处测量所述通过的电子的图像的位移。所述电子显微镜的像差系数由所述测量的位移和所述通过的电子的所述能量和动量中的至少一个确定。所述测量出的像差可用于改变所述电子显微镜或所述电子显微镜的光学元件的参数，从而控制所述电子显微镜的整体像差。

著录项

公开/公告号CN110546732A

专利类型发明专利
公开/公告日2019-12-06

原文格式PDF
申请/专利权人国际商业机器公司;
展开▼

申请/专利号CN201880026685.3
发明设计人 R·M·特朗普;
展开▼

申请日2018-05-10
分类号
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人李颖
地址美国纽约
入库时间 2024-02-19 15:57:53

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-12-31

实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/05 申请日:20180510

实质审查的生效
2019-12-06

公开

公开

相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 电子显微镜中测量和控制像差 [P] . 中国专利： CN110546732B . 2021.11.26
2. 电子显微镜中测量和控制像差 [P] . 中国专利： CN110546732A . 2019-12-06
3. Measuring and controlling aberrations in electron microscopes [P] . 英国专利： GB201916948D0 . 2020-01-08

机译：测量和控制电子显微镜中的像差
4. Measuring and controlling aberrations in electron microscopes [P] . 德国专利： DE112018000937T5 . 2019-11-07

机译：测量和控制电子显微镜中的像差
5. MEASURING AND CONTROLLING ABERRATIONS IN ELECTRON MICROSCOPES [P] . 世界知识产权组织专利： WO2018211369A1 . 2018-11-22

机译：电子显微镜中的测量和控制异常