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X射线暗场成像中的射束硬化校正

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本发明涉及包括第一材料和第二材料的对象的X射线暗场成像中的射束硬化校正，第一和第二材料具有不同的射束硬化性质。由于X射线成像数据包括关于成像对象的内部结构的信息，因此这样的信息可以连同适当的校准数据一起用于识别在对象的成像区中发生的射束硬化贡献，从而允许对由于X射线暗场成像中的射束硬化的伪影的校正。

著录项

公开/公告号CN110636796A

专利类型发明专利
公开/公告日2019-12-31

原文格式PDF
申请/专利权人皇家飞利浦有限公司;
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申请/专利号CN201880033090.0
发明设计人 A·亚罗申科;H-I·马克;T·克勒;F·德马尔科;L·B·格罗曼;K·维勒;P·诺埃尔;
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申请日2018-04-17
分类号A61B6/00(20060101);G01V5/00(20060101);
代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;
代理人孟杰雄
地址荷兰艾恩德霍芬
入库时间 2024-02-19 17:28:06

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2020-05-15

实质审查的生效 IPC(主分类):A61B6/00 申请日:20180417

实质审查的生效
2019-12-31

公开

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