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光掩模基板、其修正方法、制造方法和处理方法、光掩模的制造方法以及基板处理装置

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本发明涉及光掩模基板、其修正方法、制造方法和处理方法、光掩模的制造方法以及基板处理装置，能够不需要时间和工时对光掩模的缺陷修正，由此提高光掩模制造的生产效率和品质。该光掩模基板的修正方法具有：准备光掩模基板(10)的工序，该光掩模基板(10)在透明基板(100)的一个主表面上形成有用于形成转印用图案的光学膜(200)；和针对在光学膜(200)中产生的缺失缺陷形成修正膜的修正工序。修正工序中，将原料气体供给至光掩模基板(10)的形成有光学膜(200)的第1主表面中的缺失缺陷的位置附近，同时从光掩模基板(10)的第2主表面侧照射激光，利用透过了缺失缺陷的激光使原料气体发生反应，使修正膜堆积在第1主表面的缺失缺陷的位置。

著录项

公开/公告号CN110967924A

专利类型发明专利
公开/公告日2020-04-07

原文格式PDF
申请/专利权人 HOYA株式会社;
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申请/专利号CN201910910496.9
发明设计人山口昇;
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申请日2019-09-25
分类号
代理机构北京三友知识产权代理有限公司;
代理人孟伟青
地址日本东京都
入库时间 2023-12-17 07:08:50

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2020-04-07

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