公开/公告号CN111378198A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-07-07
原文格式PDF
申请/专利权人 东京应化工业株式会社;
申请/专利号CN201911348755.X
发明设计人 菅原司;
申请日2019-12-24
分类号
代理机构北京市金杜律师事务所;
代理人杨宏军
地址 日本神奈川县
入库时间 2023-12-17 09:33:57
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-07-07
公开
公开
机译: 涂料组合物,多孔质硅质膜,多孔质硅质膜的制造方法以及半导体装置
机译: 涂料组合物,二氧化硅多孔质膜,二氧化硅多孔质膜的制造方法以及半导体装置
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