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散射仪以及使用声学辐射的散射测量方法

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摘要

一种声学散射仪(502)具有声学源(520)，其可操作以将声学辐射(526)投影到形成在衬底(536)上的周期性结构(538)和(540)上。声学检测器(518)可操作以检测由周期性结构(538)和(540)衍射的负第一声学衍射阶(528)，同时区别于镜面反射(第0阶532)。另一声学检测器(522)可操作以检测由周期性结构衍射的正第一声学衍射阶(530)，同时再次区别于镜面反射(第0阶532)。声学源和声学检测器可以是压电换能器。相对于周期性结构(538)和(540)布置投影声学辐射(526)的入射角和检测器(518)和(522)的位置，使得对负第一声学衍射阶(528)和正第一声学衍射阶(530)的检测区别于第0阶镜面反射(532)。

著录项

  • 公开/公告号CN111226172A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-06-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN201880067247.1

  • 发明设计人 M·皮萨伦科;N·潘迪;A·波洛;

    申请日2018-10-10

  • 分类号

  • 代理机构北京市金杜律师事务所;

  • 代理人傅远

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2023-12-17 09:42:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20181010

    实质审查的生效

  • 2020-06-02

    公开

    公开

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