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一种基于19.6nm软X射线的准单能背光阴影成像方法

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本发明涉及一种基于19.6nm软X射线的准单能背光阴影成像方法，包括以下步骤：S1、安装、调节成像装置，成像装置包括背光靶、待测靶、多层膜球面镜、接收部件；S2、驱动激光辐照背光靶，产生软X射线，所述软X射线的波长为19.6nm；S3、驱动激光辐照射待测靶，驱动产生等离子体；S4、软X射线穿越等离子体，多层膜球面镜对等离子体进行成像，接收部件接收记录等离子体成像。本发明采用波长19.6nm的软X射线作为探针，由于穿透能力适中，使得诊断传统硬X射线背光阴影方法无能为力的某些特殊条件下的中等及较低电子密度等离子体成为可能；可以非常方便的实现准单能近正入射成像，所得背光阴影图像具有准单能性和高空间分辨，方便进一步的解读和处理。

著录项

公开/公告号CN111487261A

专利类型发明专利
公开/公告日2020-08-04

原文格式PDF
申请/专利权人中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所;
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申请/专利号CN202010337206.9
发明设计人王琛;安红海;王轶文;方智恒;熊俊;贺芝宇;曹兆栋;谢志勇;张帆;王伟;
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申请日2020-04-26
分类号
代理机构上海智力专利商标事务所(普通合伙);
代理人周涛
地址 201899 上海市嘉定区陈家山路1129号
入库时间 2023-12-17 11:11:41

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2020-08-28

实质审查的生效 IPC(主分类):G01N23/04 申请日:20200426

实质审查的生效
2020-08-04

公开

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