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下层膜形成用树脂材料、抗蚀剂下层膜、抗蚀剂下层膜的制造方法及层叠体

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本发明的下层膜形成用树脂材料是用于形成多层抗蚀剂工艺所使用的抗蚀剂下层膜的下层膜形成用树脂材料，其包含环状烯烃聚合物(I)，使用流变仪，在氮气气氛下、以剪切模式、测定温度范围30～300℃、升温速度3℃/min、频率1Hz的条件测定得到的上述下层膜形成用树脂材料的固体粘弹性中，表示储能弹性模量(G’)曲线与损耗弹性模量(G”)曲线的交点的温度为40℃以上200℃以下。

著录项

公开/公告号CN111183395A

专利类型发明专利
公开/公告日2020-05-19

原文格式PDF
申请/专利权人三井化学株式会社;
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申请/专利号CN201880064822.2
发明设计人川岛启介;小田隆志;井上浩二;
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申请日2018-05-30
分类号
代理机构北京银龙知识产权代理有限公司;
代理人钟晶
地址日本东京都
入库时间 2023-12-17 11:49:32

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2020-06-12

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/11 申请日:20180530

实质审查的生效
2020-05-19

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机译：成膜材料，用于光刻的成膜组合物，光学部件形成材料，抗蚀剂组合物，抗蚀剂图案形成方法，用于抗蚀剂的永久膜，辐射敏感性组合物，非晶膜的制造方法，用于光刻的下层膜形成材料，用于光刻的下层成膜组合物，用于光刻的下层膜的制造方法和电路图案形成方法