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半导体设计布图形成方法和图形图案形成单元

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本发明提供半导体设计布图形成方法和图形图案形成单元特别涉及一晶片上布图的半导体设计布图形成方法，其中所布设的布线间距不同，并且其中在该布图的非布线区形成与布线无关的虚拟图形图案，以使虚拟图形图案与相邻布线之间的间隔变得与布线的间隔相同。可以使该晶片上设计布图中各条线的端部间距均一，以便可以限定这些线端部形状变化(后退)的差量。由此可以使该晶片上的后退量均一，以便可以简化锤形图形形成的技术要求，并且可以缩短掩模CAD处理过程所需的时间，还可以减少掩模数据量。本发明实现了减少估算一条线图案中端部后退量的工作量和简化掩模的CAD处理过程。

著录项

公开/公告号CN1574217A

专利类型发明专利
公开/公告日2005-02-02

原文格式PDF
申请/专利权人松下电器产业株式会社;
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申请/专利号CN200310118237.1
发明设计人山际实;谷本正;三坂章夫;日野上丽子;
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申请日2003-12-08
分类号H01L21/027;G03F1/08;G03F7/20;
代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司;
代理人徐金国
地址日本大阪
入库时间 2023-12-17 15:47:27

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2009-11-11

专利权的视为放弃

专利权的视为放弃
2005-04-06

实质审查的生效

实质审查的生效
2005-02-02

公开

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