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使用已校准的本征分解模型的光刻过程的制造可靠性检查与验证的方法

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摘要

一种模拟光刻过程的方法，包括这些步骤：产生光刻过程的已校准模型，该模型能推断将由该光刻过程在用于含有多个特征的掩模图案成像时产生的像；并确定已校准模型的操作窗口，该操作窗口确定所述已校准模型是否能精确地推断由所述掩模图案中的特定特征产生的像。

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2011-04-20

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F7/20 授权公告日:20090311 终止日期:20100129 申请日:20050129

专利权的终止
2009-03-11

授权

授权
2006-05-17

实质审查的生效

实质审查的生效
2005-08-24

公开

公开

1. 使用已校准的本征分解模型的光刻过程的制造可靠性检查与验证的方法 [P] . 中国专利： CN1658076A . 2005-08-24
2. 使用多维运动检查验证音频校准 [P] . 中国专利： CN108028633A . 2018-05-11
3. Method Of Manufacturing Reliability Checking And Verification For Lithography Process Using A Calibrated Eigen Decomposition Model [P] . 韩国专利： KR100725621B1 . 2007-06-07

机译：校准本征分解模型的光刻工艺制造可靠性检查与验证方法
4. Manufacturing reliability inspection and lithography process verification method using calibration eigendecomposition model [P] . 日本专利： JP4938242B2 . 2012-05-23

机译：使用校准特征分解模型的制造可靠性检查和光刻工艺验证方法
5. Method of manufacturing reliability checking and verification for lithography process using a calibrated eigen decomposition model [P] . 美国专利： US7342646B2 . 2008-03-11

机译：使用校准的特征分解模型的光刻工艺制造可靠性检查和验证的方法