首页> 中国专利> 基于数字微镜阵列的步进式无掩模数字曝光装置

基于数字微镜阵列的步进式无掩模数字曝光装置

页面导航

摘要
著录项
法律信息
相似文献

摘要

本发明公开了一种基于数字微镜阵列的步进式无掩模数字曝光装置，利用数字微镜阵列替代传统掩模板的方法，结合投影曝光系统的特点，实现系统数字式、柔性曝光；由计算机将要曝光的图形、图像发送到数字微镜阵列上，构成数字式掩模，再利用均匀化、准直化后的照明光照射数字微镜阵列，数字微镜阵列上的掩模图像将对该光束进行空间光调制，再由投影物镜系统将该数字掩模板上的图形、图像复制到光刻样品上；光刻样品被置于高精密X－Y向移动工件台上，依靠工件台步进，顺次由数字微镜阵列在焦平面上所形成各个曝光子场的图形，经拼接获得较大面积的曝光图像或图形。本发明具有很强的技术延伸性和工艺兼容性，易于应用在普通工程实际。

著录项

公开/公告号CN101320222A

专利类型发明专利
公开/公告日2008-12-10

原文格式PDF
申请/专利权人中国科学院光电技术研究所;
展开▼

申请/专利号CN200810116067.6
发明设计人严伟;唐小萍;胡松;邢薇;赵立新;杨勇;杨文波;杨波;周绍林;陈旺富;
展开▼

申请日2008-07-02
分类号G03F7/20(20060101);G02B1/10(20060101);G02B5/08(20060101);G02B27/09(20060101);
代理机构11251 北京科迪生专利代理有限责任公司;
代理人贾玉忠;卢纪
地址 610209 四川省双流350信箱
入库时间 2023-12-17 21:06:40

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2010-08-11

发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F7/20 公开日:20081210 申请日:20080702

发明专利申请公布后的视为撤回
2009-02-25

实质审查的生效

实质审查的生效
2008-12-10

公开

公开

相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 基于数字微镜阵列的步进式无掩模数字曝光装置 [P] . 中国专利： CN101320222A . 2008-12-10
2. 一种基于LED阵列的数字投影无掩模曝光装置及方法 [P] . 中国专利： CN112083632A . 2020-12-15
3. Method for arrange digital mirror device in maskless exposure device [P] . 韩国专利： KR101131442B1 . 2012-03-30

机译：在无掩模曝光装置中布置数字镜装置的方法
4. LIGHT BEAM POSITION MEASURING APPARATUS FOR A DIGITAL MICRO MIRROR DEVICE OF A MASKLESS EXPOSURE APPARATUS [P] . 韩国专利： KR20110061318A . 2011-06-09

机译：用于无曝光装置的数字微镜设备的光束位置测量装置
5. Micromirror device sorting method, micromirror device sorting apparatus, and maskless exposure apparatus [P] . 日本专利： JP5481400B2 . 2014-04-23

机译：微镜器件分类方法，微镜器件分类设备和无掩模曝光设备