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灰色调掩模的制造方法和灰色调掩模以及图案转印方法

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摘要

本发明提供一种灰色调掩模的制造方法、灰色调掩模及图案转印方法。其中，准备在透明基板上依次具有半透光膜和遮光膜的灰色调掩模板，对该灰色调掩模板施加第一次构图，在包含被构图的遮光膜和露出的半透光膜的透明基板整个表面上形成抗蚀剂膜之后，通过进行第二次构图，在该半透光膜和该遮光膜上分别进行预定构图，从而形成灰色调掩模。并且，相对于所述第一次构图时的描绘光的所述遮光膜的表面反射率和相对于所述第二次构图时的描绘光的所述半透光膜的表面反射率的差，被调整为35％以下。

著录项

公开/公告号CN101408725A

专利类型发明专利
公开/公告日2009-04-15

原文格式PDF
申请/专利权人 HOYA株式会社;
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申请/专利号CN200810178589.9
发明设计人佐野道明;井村和久;三井胜;
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申请日2008-09-26
分类号G03F1/00;G03F7/00;
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人李贵亮
地址日本东京都
入库时间 2023-12-17 21:44:58

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2012-02-29

发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F1/00 公开日:20090415 申请日:20080926

发明专利申请公布后的视为撤回
2009-06-10

实质审查的生效

实质审查的生效
2009-04-15

公开

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