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真空镀膜方法、真空镀膜设备以及镀膜元件和外壳

摘要

本发明提供一种真空镀膜方法,该方法包括以下步骤:将待镀膜工件置于真空镀膜室内的支架上;在待镀膜工件与镀膜源之间设置遮挡片;在工件表面进行真空镀膜,并在工件表面被遮挡片所遮挡的区域形成渐变镀层。本发明还涉及用于该方法的真空镀膜设备以及由该方法制得的镀膜元件和外壳。该真空镀膜方法通过在镀膜源和工件之间设置遮挡片,在镀膜时,可以在工件的特定区域形成厚度渐变的镀膜层。而且,镀膜后形成的镀膜元件或外壳的表面在外观上表现一致。在其实际使用时,可增加工件表面多样性效果,如可产生特定的光泽效果和光学效果。

著录项

  • 公开/公告号CN101629277A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-01-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 比亚迪股份有限公司;

    申请/专利号CN200810068554.X

  • 发明设计人 张凯;方焱;

    申请日2008-07-18

  • 分类号C23C14/34(20060101);C23C14/35(20060101);C23C14/14(20060101);G02B1/10(20060101);

  • 代理机构44237 深圳中一专利商标事务所;

  • 代理人张全文

  • 地址 518118 广东省深圳市龙岗区坪山镇横坪公路3001号

  • 入库时间 2023-12-17 23:18:41

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-04-17

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C14/34 申请公布日:20100120 申请日:20080718

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2010-06-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/34 申请日:20080718

    实质审查的生效

  • 2010-01-20

    公开

    公开

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