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等离子体处理装置的聚焦环及具有聚焦环的等离子体处理装置

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摘要

本发明涉及等离子体处理装置的聚焦环及具有聚焦环的等离子体处理装置。更具体而言，本发明涉及等离子体处理装置的聚焦环以及具有聚焦环的等离子体处理装置，该聚焦环能够通过在执行刻蚀工艺或沉积工艺而在等离子态中处理晶片的等离子体处理装置中有效地装载和卸载晶片或托盘来固定晶片或承载晶片的托盘。本发明的等离子体处理装置包括：处理室；卡盘，其设置在处理室中并竖直地致动；聚焦环，其安装在卡盘的外周上；以及夹具，其用于将置于卡盘上的晶片或晶片托盘固定至卡盘，其中，聚焦环由固定至聚焦环底座的第一聚焦环与固定至或置于卡盘的外周上的第二聚焦环的结合而形成，当卡盘下移时第二聚焦环比第一聚焦环下移得更多。

著录项

公开/公告号CN102117726A

专利类型发明专利
公开/公告日2011-07-06

原文格式PDF
申请/专利权人塔工程有限公司;
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申请/专利号CN201010266434.8
发明设计人朴根佑;李诚宰;罗润柱;
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申请日2010-08-30
分类号
代理机构北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人郭放
地址韩国庆尚北道
入库时间 2023-12-18 02:51:52

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2014-03-12

发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01J37/32 申请公布日:20110706 申请日:20100830

发明专利申请公布后的视为撤回
2011-08-24

实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/32 申请日:20100830

实质审查的生效
2011-07-06

公开

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