首页> 中国专利> 一种低场高弛豫率MRI造影剂及其制备方法与应用

一种低场高弛豫率MRI造影剂及其制备方法与应用

摘要

本发明公开了一种适用于低场磁共振成像的高效MRI大分子造影剂及其制备方法与应用。所述MRI大分子造影剂可按照包括下述步骤的方法制备:a)将富勒烯羧酸衍生物溶于MES缓冲液中,加入EDC和NHS,室温下反应,得到富勒烯羧酸活性酯溶液;b)将Gd-DTPA-HSA加入到所述富勒烯羧酸活性酯溶液中搅拌反应,即得到所述的MRI造影剂。该Gd-DTPA-HSA-fullerene大分子造影剂在低场(0.5T)条件下弛豫效率显著提高,可在减少造影剂的使用剂量条件下得到明显的组织对比度;更为重要的是将其作为一种MRI分子探针,可以用于探索纳米材料(如功能化富勒烯衍生物)的体内分布代谢行为。

著录项

  • 公开/公告号CN102319443A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-01-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院化学研究所;

    申请/专利号CN201110221384.6

  • 发明设计人 舒春英;甄明明;王春儒;郑俊鹏;

    申请日2011-08-03

  • 分类号A61K49/06(20060101);

  • 代理机构11245 北京纪凯知识产权代理有限公司;

  • 代理人关畅

  • 地址 100080 北京市海淀区中关村北一街2号

  • 入库时间 2023-12-18 04:12:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-06

    专利权的转移 IPC(主分类):A61K49/06 登记生效日:20180320 变更前: 变更后: 申请日:20110803

    专利申请权、专利权的转移

  • 2013-03-20

    授权

    授权

  • 2012-03-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):A61K49/06 申请日:20110803

    实质审查的生效

  • 2012-01-18

    公开

    公开

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