法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-05-29
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G01N21/64 申请公布日:20160907 申请日:20160506
发明专利申请公布后的驳回
2016-10-05
实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/64 申请日:20160506
实质审查的生效
2016-09-07
公开
公开
机译: 利用纳米晶硅膜结构的等离子体沉积技术,形成方法,具有纳米晶硅膜结构的非易失性存储器件及其形成方法
机译: 利用等离子体沉积技术形成的纳米硅层结构,具有纳米硅层结构的相同,非易失性存储设备的形成方法以及制造非易失性存储设备的方法
机译: 利用循环沉积技术降低碳粉形成的基体温度来防止颗粒生成的循环沉积技术形成碳纳米材料的方法