法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-05-22
专利权的视为放弃 IPC(主分类):G03F7/004 放弃生效日:20200522 申请日:20150312
专利权的视为放弃
2016-12-14
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/004 申请日:20150312
实质审查的生效
2016-11-16
公开
公开
机译: 光化射线或放射线敏感性树脂组合物,光化射线或放射线敏感性膜,具有光化射线或放射线敏感性膜的掩模坯料,图案形成方法,电子器件的制造方法,电子器件及化合物
机译: 图案形成方法,感测动态射线或放射线敏感性树脂组合物,感测动态射线或放射线敏感性膜,电子设备的制造方法和电子设备
机译: 用于半导体器件制造工艺的树脂的制造方法,树脂的制造方法,树脂的制造方法,光化射线敏感性或放射线敏感性树脂组合物,以及光化射线敏感性或放射线性树脂-