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一种利用水等离子体氧化制备氧化铬涂层的方法

摘要

本发明涉及一种利用水等离子体氧化制备氧化铬涂层的方法,属于化工材料制备技术领域。本发明以水等离子体为氧化介质,氧化铬涂层在金属基体的镀铬表面进行原位生长。氧化铬涂层优选制备温度为500℃,优选制备时长为2h,优选制备气压为80Pa之。通过对比空气氧化获得的氧化铬涂层(AO),水蒸气氧化获得的氧化铬涂层(WVO)及水等离子体氧化获得的氧化铬涂层(WPO)的表面特性及阻氢性能,表明水等离子体氧化工艺获得的涂层质量最优,性能最佳。本发明可以应用于临氢环境的储氢容器及核反应堆的结构部件,能够提高其阻氢效率。

著录项

  • 公开/公告号CN108517485A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-09-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 清华大学;

    申请/专利号CN201810328522.2

  • 发明设计人 凌云汉;杨远航;顾艳红;张政军;

    申请日2018-04-13

  • 分类号C23C8/36(20060101);

  • 代理机构11201 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人罗文群

  • 地址 100084 北京市海淀区清华园1号

  • 入库时间 2023-06-19 06:27:06

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-10-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C8/36 申请日:20180413

    实质审查的生效

  • 2018-09-11

    公开

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