首页> 中国专利> 一种高抗疲劳性的铁电栅场效应晶体管存储器及制备工艺

一种高抗疲劳性的铁电栅场效应晶体管存储器及制备工艺

摘要

本发明提供一种高抗疲劳性的铁电栅场效应晶体管存储器及制备工艺,通过在源/漏区以及绝缘层形成之前,通过硅表面平坦化技术,优化器件制备工艺,从而达到提高绝缘层质量,改善绝缘层与硅界面,提高氧化铪基铁电栅场效应晶体管存储器抗疲劳性能的效果。

著录项

  • 公开/公告号CN108538850A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-09-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 湘潭大学;

    申请/专利号CN201810348937.6

  • 申请日2018-04-18

  • 分类号H01L27/1159(20170101);H01L21/28(20060101);

  • 代理机构35222 厦门智慧呈睿知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人杨唯

  • 地址 411100 湖南省湘潭市雨湖区羊牯塘卢家滩27号湘潭大学

  • 入库时间 2023-06-19 06:29:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-10-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/1159 申请日:20180418

    实质审查的生效

  • 2018-09-14

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号