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预图案化光刻模板、基于使用该模板的辐射图案化的工艺及形成该模板的工艺

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高蚀刻对比度材料为使用具有模板硬质掩膜的预图案化模板结构提供了基础，该模板硬质掩膜具有周期性孔和在该孔内的填充物，其为快速获得由该模板和高蚀刻对比度抗蚀剂引导的高分辨率图案提供了基础。本发明描述用于使用该预图案化模板进行辐射光刻(例如EUV辐射光刻)的方法。此外，本发明描述用于形成该模板的方法。本发明描述用于形成该模板的材料。

著录项

公开/公告号CN108780739A

专利类型发明专利
公开/公告日2018-11-09

原文格式PDF
申请/专利权人因普里亚公司;
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申请/专利号CN201780016440.8
发明设计人 J·K·斯托尔斯;A·格伦维尔;
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申请日2017-03-10
分类号
代理机构广州嘉权专利商标事务所有限公司;
代理人黄琳娟
地址美国俄勒冈州
入库时间 2023-06-19 07:08:01

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-02-26

实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/027 申请日:20170310

实质审查的生效
2018-11-09

公开

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