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用于衬底和装置的薄膜渗透屏障系统和制造所述薄膜渗透屏障系统的方法

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摘要

本申请涉及一种用于衬底和装置的薄膜渗透屏障系统和制造所述薄膜渗透屏障系统的方法。提供薄膜渗透屏障系统和制造所述薄膜渗透屏障系统的技术。所述屏障系统包括混合层，例如含有SiOxCyHz的层，和无机层。

1. 用于衬底和装置的薄膜渗透屏障系统和制造所述薄膜渗透屏障系统的方法 [P] . 中国专利： CN111769206A . 2020-10-13
2. 用于衬底和装置的薄膜渗透屏障系统和制造所述薄膜渗透屏障系统的方法 [P] . 中国专利： CN105390621A . 2016-03-09
3. THIN FILM PERMEATION BARRIER SYSTEM FOR SUBSTRATES AND DEVICES AND METHOD OF MAKING THE SAME [P] . KR102321945B1 . 2021-11-04

机译：用于基板和装置的薄膜渗透屏障系统及其制造方法
4. Thin film permeation barrier system for substrates and devices and method of making the same [P] . 美国专利： US2016056414A1 . 2016-02-25

机译：用于基板和装置的薄膜渗透屏障系统及其制造方法
5. THIN FILM PERMEATION BARRIER SYSTEM FOR SUBSTRATES AND DEVICES AND METHOD OF MAKING THE SAME [P] . 韩国专利： KR20160028362A . 2016-03-11

机译：用于基材和膜的薄膜渗透屏障系统及其制备方法