首页> 中国专利> 将护膜置于光掩模上的设备与将护膜置于光掩模上的方法

将护膜置于光掩模上的设备与将护膜置于光掩模上的方法

摘要

本发明实施例涉及将护膜置于光掩模上的设备与将护膜置于光掩模上的方法。本发明实施例提供一种将护膜置于光掩模上的设备,其包含:盖,其具有第一侧及与所述第一侧相对的第二侧,其中所述第二侧经设置以面对所述光掩模;及气垫,其放置于所述第一侧与所述第二侧之间,其中所述气垫包括经填充有空气的气室。

著录项

  • 公开/公告号CN111856873A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN202010218633.5

  • 发明设计人 刘子汉;温志伟;林重宏;

    申请日2020-03-25

  • 分类号G03F1/62(20120101);

  • 代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人李春秀

  • 地址 中国台湾新竹市新竹科学工业园力行六路8号

  • 入库时间 2023-06-19 08:42:38

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号