公开/公告号CN111856873A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-10-30
原文格式PDF
申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;
申请/专利号CN202010218633.5
申请日2020-03-25
分类号G03F1/62(20120101);
代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;
代理人李春秀
地址 中国台湾新竹市新竹科学工业园力行六路8号
入库时间 2023-06-19 08:42:38
机译: 用于容纳带有光掩模或防护膜的光掩模的一侧以防止清洁介质的保持器,具有光掩模或防护膜的光掩模的清洁方法以及用于打开和关闭保持器的设备
机译: 用于将光掩模或光掩模的侧面放置和保护具有相对于清洁介质的膜的持有者,一种用于用膜清洁光掩模或光掩模的方法和用于打开和关闭的装置
机译: 光掩模和在光掩模上形成自组装单层膜和无机超薄膜的方法