法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-05-12
著录事项变更 IPC(主分类):H01L21/68 专利申请号:2020110629867 变更事项:申请人 变更前:晶科能源有限公司 变更后:晶科能源股份有限公司 变更事项:地址 变更前:334100 江西省上饶市经济开发区晶科大道1号 变更后:334100 江西省上饶市经济技术开发区迎宾大道1号 变更事项:申请人 变更前:浙江晶科能源有限公司 变更后:浙江晶科能源有限公司
著录事项变更
机译: 用于生长单晶硅片和单晶硅片的方法,由于硅晶片中的氧气浓度不均匀,该单晶硅片和单晶硅片能够降低失效率
机译: 通过控制热区炉的拉速曲线制造单晶硅片和硅片的方法,以及由此制得的硅片和硅片
机译: 掺硼p型硅片铁浓度分析方法及分析装置,硅片的制造方法及硅片