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基于云计算和物联网的展览馆展览环境分析调控中央控制系统

摘要

本发明公开基于云计算和物联网的展览馆展览环境分析调控中央控制系统,包括区域划分模块、环境参数检测模块、环境参数分析模块、灰度图像采集模块、灰度图像处理模块、腐蚀面积获取模块、腐蚀面积占比分析模块、分析服务器、中央控制中心和存储数据库;本发明通过将展览馆内划分成各展品的展览区域,检测展览馆内各展品的展览区域中各环境参数数值,得到各展品的展览区域中各环境参数数值差值,同时采集展览馆内各展品的表面灰度图像,获取各展品表面灰度图像的腐蚀面积,分析展览馆内各展品的表面腐蚀面积占比,计算展览馆内各展品的展览区域中综合环境调控影响系数,并对展览馆内各展品的展览区域进行对应的环境调控。

著录项

  • 公开/公告号CN113093845A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉量卓科技有限公司;

    申请/专利号CN202110372581.1

  • 发明设计人 万彩云;

    申请日2021-04-07

  • 分类号G05D27/02(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 430000 湖北省武汉市武昌区武珞路628号亚贸广场C栋12层

  • 入库时间 2023-06-19 11:45:49

说明书

技术领域

本发明涉及环境分析调控技术领域,涉及到基于云计算和物联网的展览馆展览环境分析调控中央控制系统。

背景技术

展览馆作为文化、物品的展示场所,而展览环境的变化是影响展品寿命的重要因素,因此调控展览馆内展览环境是展览馆工作的重要内容,也是展品“预防性保护”的核心。

目前,现有的展览馆展览环境分析检测方式主要通过人工检测,即人工定时对展览馆内各展品的展览区域环境进行检测,这样不仅浪费大量人力资源成本,而且存在检测数据及时性、有效性不高的特点,从而降低检测数据的准确性和可靠性,同时通过人工目测不能精准检测展览馆内展品表面腐蚀面积,从而无法及时调控展览馆内展品展览区域环境,导致展览馆内展品失去养护的最佳时机,进而降低展览馆内展品的展览效果,为了解决以上问题,现设计基于云计算和物联网的展览馆展览环境分析调控中央控制系统。

发明内容

本发明的目的在于提供基于云计算和物联网的展览馆展览环境分析调控中央控制系统,本发明通过将展览馆内划分成各展品的展览区域,检测展览馆内各展品的展览区域中各环境参数数值,对比得到展览馆内各展品的展览区域中各环境参数数值的对比差值,同时采集展览馆内各展品的表面灰度图像,并进行图像处理,获取展览馆内各展品表面灰度图像的腐蚀面积,分析展览馆内各展品的表面腐蚀面积占比,同时计算展览馆内各展品的展览区域中综合环境调控影响系数,并对展览馆内各展品的展览区域进行对应的环境调控,解决了背景技术中存在的问题。

本发明的目的可以通过以下技术方案实现:

基于云计算和物联网的展览馆展览环境分析调控中央控制系统,包括区域划分模块、环境参数检测模块、环境参数分析模块、灰度图像采集模块、灰度图像处理模块、腐蚀面积获取模块、腐蚀面积占比分析模块、分析服务器、中央控制中心和存储数据库;

所述环境参数检测模块分别与区域划分模块和环境参数分析模块连接,环境参数分析模块分别与分析服务器和存储数据库连接,灰度图像处理模块分别与灰度图像采集模块和腐蚀面积获取模块连接,腐蚀面积占比分析模块分别与腐蚀面积获取模块、分析服务器和存储数据库连接,分析服务器分别与中央控制中心和存储数据库连接;

所述区域划分模块用于对展览馆的展览区域进行划分,按照展品放置区域的不同将展览馆划分成各展览区域,对展览馆内各展品的展览区域按照设定的顺序依次进行编号,展览馆内各展品的展览区域编号分别为1,2,...,i,...,n,将展览馆内各展品的展览区域编号发送至环境参数检测模块;

所述环境参数检测模块用于接收区域划分模块发送的展览馆内各展品的展览区域编号,对展览馆内各展品的展览区域中环境进行检测,分别检测展览馆内各展品的展览区域中温度、湿度、光照强度、氧气含量和有害气体浓度,统计展览馆内各展品的展览区域中温度、湿度、光照强度、氧气含量和有害气体浓度,构成展览馆内各展品的展览区域中各环境参数数值集合WR(w

所述环境参数分析模块用于接收环境参数检测模块发送的展览馆内各展品的展览区域中各环境参数数值集合,提取存储数据库中存储的展览馆内各展品的展览区域中各标准环境参数数值,将接收的展览馆内各展品的展览区域中各环境参数数值与对应展品的展览区域中对应的标准环境参数数值进行对比,得到展览馆内各展品的展览区域中各环境参数数值的对比差值集合ΔWR(Δw

所述灰度图像采集模块用于对展览馆内各展品表面进行灰度图像采集,分别采集展览馆内各展品的表面灰度图像,统计展览馆内各展品的表面灰度图像,构成展览馆内各展品的表面灰度图像集合P(p

所述灰度图像处理模块用于接收灰度图像采集模块发送的展览馆内各展品的表面灰度图像集合,采用图像归一化处理技术对接收的展览馆内各展品的表面灰度图像进行处理,统计处理后的展览馆内各展品的表面灰度图像,将处理后的展览馆内各展品的表面灰度图像发送至腐蚀面积获取模块;

所述腐蚀面积获取模块用于接收灰度图像处理模块发送的处理后的展览馆内各展品的表面灰度图像,获取展览馆内各展品表面灰度图像的腐蚀面积,统计展览馆内各展品表面灰度图像的腐蚀面积,构成展览馆内各展品表面灰度图像的腐蚀面积集合S(s

所述腐蚀面积占比分析模块用于接收腐蚀面积获取模块发送的展览馆内各展品表面灰度图像的腐蚀面积集合,提取存储数据库中存储的标准灰度图像数据与实际数据的比例系数和展览馆内各展品的标准总表面积,计算展览馆内各展品的表面腐蚀面积占比,统计展览馆内各展品的表面腐蚀面积占比,构成展览馆内各展品的表面腐蚀面积占比集合k(k

所述分析服务器用于接收环境参数分析模块发送的展览馆内各展品的展览区域中各环境参数数值的对比差值集合,同时接收腐蚀面积占比分析模块发送的展览馆内各展品的表面腐蚀面积占比集合,提取存储数据库中存储的环境参数中温度、湿度、光照强度、氧气含量、有害气体浓度的权重比例影响系数和展品表面腐蚀面积占比的环境调控影响系数,计算展览馆内各展品的展览区域中综合环境调控影响系数,统计展览馆内各展品的展览区域中综合环境调控影响系数,将展览馆内各展品的展览区域中综合环境调控影响系数发送至中央控制中心;

所述中央控制中心用于接收分析服务器发送的展览馆内各展品的展览区域中综合环境调控影响系数,通过工作人员对展览馆内各展品的展览区域进行对应的环境调控;

所述存储数据库用于存储展览馆内各展品的展览区域中各标准环境参数数值,同时存储展览馆内各展品的标准总表面积,并存储标准灰度图像数据与实际数据的比例系数μ和展品表面腐蚀面积占比的环境调控影响系数η,存储环境参数中温度、湿度、光照强度、氧气含量、有害气体浓度的权重比例影响系数,分别记为λ

进一步地,所述环境参数检测模块包括温度检测单元、湿度检测单元、光照强度检测单元、氧气含量检测单元和有害气体浓度检测单元,其中温度检测单元为温度传感器,用于实时检测展览馆内各展品的展览区域中温度,湿度检测单元为湿度传感器,用于实时检测展览馆内各展品的展览区域中湿度,光照强度检测单元为光照传感器,用于实时检测展览馆内各展品的展览区域中光照强度,氧气含量检测单元为氧气传感器,用于实时检测展览馆内各展品的展览区域中氧气含量,有害气体浓度检测单元为有害气体检测仪,用于实时检测展览馆内各展品的展览区域中有害气体浓度。

进一步地,所述灰度图像采集模块包括x射线检测仪,通过x射线检测仪对展览馆内各展品表面进行全方位扫描,获取展览馆内各展品的各方位灰度图像,并将展览馆内各展品的各方位灰度图像进行整合,得到展览馆内各展品的表面灰度图像。

进一步地,所述图像归一化处理技术为对展览馆内各展品的表面灰度图像进行归一化处理,变换为固定标准形式的各展品表面灰度图像。

进一步地,所述展览馆内各展品的表面腐蚀面积占比计算公式为

进一步地,所述展览馆内各展品的展览区域中综合环境调控影响系数计算公式为

有益效果:

(1)本发明提供的基于云计算和物联网的展览馆展览环境分析调控中央控制系统,本发明通过将展览馆内划分成各展品的展览区域,检测展览馆内各展品的展览区域中各环境参数数值,对比得到展览馆内各展品的展览区域中各环境参数数值的对比差值,从而节约大量人力资源成本,避免出现检测数据及时性、有效性不高的问题,增加检测数据的准确性和可靠性,同时采集展览馆内各展品的表面灰度图像,并进行图像处理,从而减少图像分析所需的时间以及任务量,同时获取展览馆内各展品表面灰度图像的腐蚀面积,分析展览馆内各展品的表面腐蚀面积占比,为后期计算展览馆内各展品的展览区域中综合环境调控影响系数提高可靠的参考数据。

(2)本发明通过计算展览馆内各展品的展览区域中综合环境调控影响系数,并对展览馆内各展品的展览区域进行对应的环境调控,从而能够及时调控展览馆内展品展览区域环境,避免展览馆内展品失去养护的最佳时机,进而提高展览馆内展品的展览效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明的示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。

请参阅图1所示,基于云计算和物联网的展览馆展览环境分析调控中央控制系统,包括区域划分模块、环境参数检测模块、环境参数分析模块、灰度图像采集模块、灰度图像处理模块、腐蚀面积获取模块、腐蚀面积占比分析模块、分析服务器、中央控制中心和存储数据库。

所述环境参数检测模块分别与区域划分模块和环境参数分析模块连接,环境参数分析模块分别与分析服务器和存储数据库连接,灰度图像处理模块分别与灰度图像采集模块和腐蚀面积获取模块连接,腐蚀面积占比分析模块分别与腐蚀面积获取模块、分析服务器和存储数据库连接,分析服务器分别与中央控制中心和存储数据库连接。

所述区域划分模块用于对展览馆的展览区域进行划分,按照展品放置区域的不同将展览馆划分成各展览区域,对展览馆内各展品的展览区域按照设定的顺序依次进行编号,展览馆内各展品的展览区域编号分别为1,2,...,i,...,n,将展览馆内各展品的展览区域编号发送至环境参数检测模块。

所述环境参数检测模块所述环境参数检测模块包括温度检测单元、湿度检测单元、光照强度检测单元、氧气含量检测单元和有害气体浓度检测单元,用于接收区域划分模块发送的展览馆内各展品的展览区域编号,对展览馆内各展品的展览区域中环境进行检测,其中温度检测单元为温度传感器,用于实时检测展览馆内各展品的展览区域中温度,湿度检测单元为湿度传感器,用于实时检测展览馆内各展品的展览区域中湿度,光照强度检测单元为光照传感器,用于实时检测展览馆内各展品的展览区域中光照强度,氧气含量检测单元为氧气传感器,用于实时检测展览馆内各展品的展览区域中氧气含量,有害气体浓度检测单元为有害气体检测仪,用于实时检测展览馆内各展品的展览区域中有害气体浓度,统计展览馆内各展品的展览区域中温度、湿度、光照强度、氧气含量和有害气体浓度,构成展览馆内各展品的展览区域中各环境参数数值集合WR(w

所述环境参数分析模块用于接收环境参数检测模块发送的展览馆内各展品的展览区域中各环境参数数值集合,提取存储数据库中存储的展览馆内各展品的展览区域中各标准环境参数数值,将接收的展览馆内各展品的展览区域中各环境参数数值与对应展品的展览区域中对应的标准环境参数数值进行对比,得到展览馆内各展品的展览区域中各环境参数数值的对比差值集合ΔWR(Δw

所述灰度图像采集模块包括x射线检测仪,用于对展览馆内各展品表面进行灰度图像采集,通过x射线检测仪对展览馆内各展品表面进行全方位扫描,获取展览馆内各展品的各方位灰度图像,并将展览馆内各展品的各方位灰度图像进行整合,得到展览馆内各展品的表面灰度图像,统计展览馆内各展品的表面灰度图像,构成展览馆内各展品的表面灰度图像集合P(p

所述灰度图像处理模块用于接收灰度图像采集模块发送的展览馆内各展品的表面灰度图像集合,采用图像归一化处理技术对接收的展览馆内各展品的表面灰度图像进行归一化处理,变换为固定标准形式的各展品表面灰度图像,从而减少图像分析所需的时间以及任务量,并统计处理后的展览馆内各展品的表面灰度图像,将处理后的展览馆内各展品的表面灰度图像发送至腐蚀面积获取模块。

所述腐蚀面积获取模块用于接收灰度图像处理模块发送的处理后的展览馆内各展品的表面灰度图像,获取展览馆内各展品表面灰度图像的腐蚀面积,统计展览馆内各展品表面灰度图像的腐蚀面积,构成展览馆内各展品表面灰度图像的腐蚀面积集合S(s

所述腐蚀面积占比分析模块用于接收腐蚀面积获取模块发送的展览馆内各展品表面灰度图像的腐蚀面积集合,提取存储数据库中存储的标准灰度图像数据与实际数据的比例系数和展览馆内各展品的标准总表面积,计算展览馆内各展品的表面腐蚀面积占比

所述分析服务器用于接收环境参数分析模块发送的展览馆内各展品的展览区域中各环境参数数值的对比差值集合,同时接收腐蚀面积占比分析模块发送的展览馆内各展品的表面腐蚀面积占比集合,提取存储数据库中存储的环境参数中温度、湿度、光照强度、氧气含量、有害气体浓度的权重比例影响系数和展品表面腐蚀面积占比的环境调控影响系数,计算展览馆内各展品的展览区域中综合环境调控影响系数

所述中央控制中心用于接收分析服务器发送的展览馆内各展品的展览区域中综合环境调控影响系数,通过工作人员对展览馆内各展品的展览区域进行对应的环境调控,从而能够及时调控展览馆内展品展览区域环境,避免展览馆内展品失去养护的最佳时机,进而提高展览馆内展品的展览效果。

所述存储数据库用于存储展览馆内各展品的展览区域中各标准环境参数数值,同时存储展览馆内各展品的标准总表面积,并存储标准灰度图像数据与实际数据的比例系数μ和展品表面腐蚀面积占比的环境调控影响系数η,存储环境参数中温度、湿度、光照强度、氧气含量、有害气体浓度的权重比例影响系数,分别记为λ

以上内容仅仅是对本发明的构思所作的举例和说明,所属本技术领域的技术人员对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代,只要不偏离发明的构思或者超越本权利要求书所定义的范围,均应属于本发明的保护范围。

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