公开/公告号CN113496287A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-10-12
原文格式PDF
申请/专利权人 广州华工弈高科技有限公司;
申请/专利号CN202010261798.0
申请日2020-04-07
分类号G06N20/00(20190101);G06F30/27(20200101);
代理机构
代理人
地址 510640 广东省广州市天河区长福路207号长兴智汇D座201-202室
入库时间 2023-06-19 12:51:29
机译: 基于空间局部性和表面特征的基于像素值预测的可逆数据隐藏方法一种可逆水印使用的方法及一种用于可逆数据隐藏的方法
机译: 基于空间局部性和表面特征的基于像素值预测的可逆数据隐藏方法一种可逆水印使用的方法及一种用于可逆数据隐藏的方法
机译: 设置元素结构的特征识别指数的方法和装置,设置分子或分子聚集的特征识别指数的方法和装置,用于产生光控制的光学数据的光学数据的生成方法和装置基于元素结构获得的声音信息的控制信号生成,基于元素结构获得的声音信息,基于计算机可读记录介质的光发射控制的发光器件,以及由计算机执行的程序