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中心结构制备方法、X射线波带片制备方法及X射线波带片

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摘要

本发明实施例公开了一种中心结构制备方法及X射线波带片制备方法，其中，中心结构制备方法包括：去除目标光纤的涂覆层，得到原始中心结构，原始中心结构包括原始纤芯和原始包层；将原始中心结构拉伸至预设尺寸，得到圆台形状的处理中心结构，预设尺寸包括第一预设直径、第二预设直径和预设长度，第一预设直径小于第二预设直径；对处理中心结构进行切割，得到具有预设尺寸的目标中心结构。本发明实施例获得预设尺寸的中心结构的方式，由于无需采用模具，因此，解决了由于模具带来的问题，实现了灵活和高效的制备直径为预设尺寸和表面粗糙度在纳米级的中心结构。

著录项

公开/公告号CN113643839A

专利类型发明专利
公开/公告日2021-11-12

原文格式PDF
申请/专利权人中国科学院微电子研究所;
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申请/专利号CN202010343496.8
发明设计人文庆涛;卢维尔;夏洋;
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申请日2020-04-27
分类号G21K1/06(20060101);C23C16/34(20060101);C23C16/40(20060101);C23C16/455(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人吴梦圆
地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号
入库时间 2023-06-19 13:13:51

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