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一种超快激光沉积类金刚石膜、防反射膜与防指纹膜多膜层的加工方法与设备

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本发明涉及多膜层加工技术领域，公开了一种超快激光沉积类金刚石膜、防反射膜与防指纹膜多膜层的加工方法与设备，该工艺采用飞秒或者皮秒预脉冲激发靶材料产生等离子体，并基于两束飞秒脉冲在所产生的等离子体中以小角度相交相互作用形成等离子体光栅对靶材料再激发产生等离子体进行沉积镀膜，实现类金刚石膜、氮化硅膜等膜层快速镀膜，并配合喷涂工艺进行抗指纹膜镀膜，最终实现多种膜层镀膜提高玻璃的硬度同时提高表面疏水性。本发明能够有效减少激发靶材料所产生等离子体中的团簇颗粒数量，提高类金刚石膜或氮化硅膜成膜质量。此外本发明基于激光对玻璃基材进行预处理活化表面，能够便于等离子体进行沉积镀膜。

著录项

公开/公告号CN115161601A

专利类型发明专利
公开/公告日2022-10-11

原文格式PDF
申请/专利权人重庆华谱科学仪器有限公司;上海朗研光电科技有限公司;云南华谱量子材料有限公司;重庆华谱量子科技有限公司;华东师范大学;华东师范大学重庆研究院;
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申请/专利号CN202210851038.4
发明设计人曾和平;胡梦云;施沈城;乔蔚;
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申请日2022-07-19
分类号C23C14/28;C23C14/06;C23C14/18;C23C14/54;
代理机构重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙);
代理人陈雍
地址 401120 重庆市渝北区卉竹路2号1幢2层1号
入库时间 2023-06-19 17:07:46

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法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2022-10-11

公开

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