首页> 中国专利> 用于增加高指数纳米压印平板印刷术膜密度的方法

用于增加高指数纳米压印平板印刷术膜密度的方法

页面导航

摘要
著录项
法律信息
相似文献

摘要

本公开内容的多个实施方式一般涉及致密纳米压印膜和用于制作这些致密纳米压印膜的工艺，和含有致密纳米压印膜的光学装置。在一个或多个实施方式中，致密纳米压印膜含有基底纳米压印膜和设置在基底纳米压印膜上和纳米颗粒之间的金属氧化物。基底纳米压印膜含有纳米颗粒，其中纳米颗粒含有氧化钛、氧化锆、氧化铌、氧化钽、氧化铪、氧化铬、铟锡氧化物、氮化硅或它们的任何组合。金属氧化物含有氧化铝、氧化钛、氧化锆、氧化铌、氧化钽、氧化铟、铟锡氧化物、氧化铪、氧化铬、氧化钪、氧化锡、氧化锌、氧化钇、氧化镨、氧化镁、氧化硅、氮化硅、氧氮化硅或它们的任何组合。

著录项

公开/公告号CN115516374A

专利类型发明专利
公开/公告日2022-12-23

原文格式PDF
申请/专利权人应用材料公司;
展开▼

申请/专利号CN202180029852.1
发明设计人安德鲁·塞巴洛斯;拉米·胡拉尼;大野健一;尤里·梅尔尼克;阿弥陀·乔希;
展开▼

申请日2021-02-23
分类号G03F7/00;C23C16/04;C23C16/40;C23C16/455;
代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司;
代理人徐金国;赵静
地址美国加利福尼亚州
入库时间 2023-06-19 18:03:23

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2022-12-23

公开

国际专利申请公布

相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 用于增加高指数纳米压印平板印刷术膜的折射率的方法 [P] . 中国专利： CN115485619A . 2022-12-16
2. 应用于紫外固化纳米压印的软膜压印装置及软膜压印方法 [P] . 中国专利： CN105511223B . 2022.12.27
3. METHODS FOR INCREASING THE DENSITY OF HIGH-INDEX NANOIMPRINT LITHOGRAPHY FILMS [P] . 美国专利： WO2021216193A1 . 2021-10-28

机译：增加高索引纳米印刷光刻膜密度的方法
4. METHODS FOR INCREASING THE DENSITY OF HIGH-INDEX NANOIMPRINT LITHOGRAPHY FILMS [P] . 美国专利： US2021325778A1 . 2021-10-21

机译：增加高索引纳米印刷光刻膜密度的方法
5. Photopolymerizable composition for nanoimprint and method of preparing nanopatterned film using the same [P] . 韩国专利： KR101650740B1 . 2016-08-24

机译：用于纳米压印的可光聚合组合物以及使用其制备纳米图案膜的方法