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一种用于化学机械抛光的承载头和化学机械抛光设备

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本发明公开了一种用于化学机械抛光的承载头和化学机械抛光设备，承载头包括连接在枢轴下方的基座组件，在基座组件下方夹持有弹性膜以形成可加压腔室，在可加压腔室内定位有内压环，在可加压腔室外设有外压环，外压环和内压环套设装配；所述弹性膜的起始端固定于基座组件，弹性膜穿过外压环和内压环之间的相交面并绕内压环的外缘延伸从而包裹内压环并在底部形成用于抵接晶圆的底面；所述内压环的底面靠近边缘的位置设有第一垫片，通过内压环按压所述第一垫片以调节晶圆边缘的形貌。

著录项

公开/公告号CN115555989A

专利类型发明专利
公开/公告日2023-01-03

原文格式PDF
申请/专利权人华海清科股份有限公司;
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申请/专利号CN202211403401.2
发明设计人王宇;孟松林;魏兴武;
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申请日2022-11-10
分类号B24B37/32;B24B37/10;
代理机构
代理人
地址 300350 天津市津南区咸水沽镇聚兴道11号
入库时间 2023-06-19 18:13:00

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法律状态信息

法律状态
2023-01-03

公开

发明专利申请公布

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